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Luvos Heilerde Sos Detox Maske 2 X 7,5 ml
- Reinigt porentief
- Bindet Feinstaub und Schadstoffe
- Für eine reine Gesichtshaut
Inhalt 2 x 7.5 ml Gesichtsmaske
1,19 €
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(85,00 € / 1 Liter)
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Mit Seefenchel und Heilerde reinigt porentief, bindet Feinstaub und Schadstoffe, neutralisiert... mehr
Produktinformationen "Luvos Heilerde Sos Detox Maske 2 X 7,5 ml"
Mit Seefenchel und Heilerde reinigt porentief, bindet Feinstaub und Schadstoffe, neutralisiert freie Radikale, für einen leuchtenden Teint
Luftverschmutzung belastet die Haut und kann den den natürlichen Alterungsprozess beschleunigen. Die Pflegeformel mit der der kapillaren Saugkraft der Heilerde bindet angesammelten Feinstaub und Schadstoffpartikel und sorgt so für eine Entlastung der Haut.
Anwendung:
Die Maske gleichmäßig auf Gesicht, Hals und Dekolleté auftragen, dabei Augen- und Mundpartie aussparen. Nach ca. 10 - 15 Minuten die Maske mit lauwarmem Wasser und einem Pad leicht massierend abnehmen. Für eine optimal gepflegte Haut anschließend das aufbauende Luvos® Gesichtsfluid verwenden. Die Luvos® SOS-Detox-Maske hilft der Haut, sich bei regelmäßiger Anwendung besser vor den Auswirkungen durch Umwelteinflüsse und oxidativen Stress zu schützen. Für eine optimal gepflegte Haut anschließend das aufbauende Luvos® Gesichtsfluid verwenden.
Inhaltsstoffe:
Natives Oliven-Öl; Gartenfuchsschwanzsamen-Extrakt; raffiniertes Maisöl; Meerfenchel-Extrakt; Aloe vera-Blätter-Saft-Pulver; Tee-Extrakt; Sonnenblumenöl; Heilerde; DL-\a63-Tocopherol; DL-\a63-Tocopherol acetat; Glycerol Stearinsäure; Maltodextrin; D-Limonen; rotes Eisen(III)-oxid; gelbes Eisen(III)-oxidhydrat; Eugenol; Linalool; Citral; Eisen(II,III)-oxid; Xanthan gummi; Glycerol stearat citrat; Parfüm; Cetylstearylalkohol; Glycerolmonostearat; Aluminium-Magnesium-silicat; Natronlauge zur pH-Wert-Einstellung; Geraniol; mittelkettige Triglyceride; gereinigtes Wasser; 4-Oxopentansäure; 4-Oxopentansäure; Natriumsalz; Sorbitol; Titandioxid; Ethanol; Palmitinsäure.
Luftverschmutzung belastet die Haut und kann den den natürlichen Alterungsprozess beschleunigen. Die Pflegeformel mit der der kapillaren Saugkraft der Heilerde bindet angesammelten Feinstaub und Schadstoffpartikel und sorgt so für eine Entlastung der Haut.
Anwendung:
Die Maske gleichmäßig auf Gesicht, Hals und Dekolleté auftragen, dabei Augen- und Mundpartie aussparen. Nach ca. 10 - 15 Minuten die Maske mit lauwarmem Wasser und einem Pad leicht massierend abnehmen. Für eine optimal gepflegte Haut anschließend das aufbauende Luvos® Gesichtsfluid verwenden. Die Luvos® SOS-Detox-Maske hilft der Haut, sich bei regelmäßiger Anwendung besser vor den Auswirkungen durch Umwelteinflüsse und oxidativen Stress zu schützen. Für eine optimal gepflegte Haut anschließend das aufbauende Luvos® Gesichtsfluid verwenden.
Inhaltsstoffe:
Natives Oliven-Öl; Gartenfuchsschwanzsamen-Extrakt; raffiniertes Maisöl; Meerfenchel-Extrakt; Aloe vera-Blätter-Saft-Pulver; Tee-Extrakt; Sonnenblumenöl; Heilerde; DL-\a63-Tocopherol; DL-\a63-Tocopherol acetat; Glycerol Stearinsäure; Maltodextrin; D-Limonen; rotes Eisen(III)-oxid; gelbes Eisen(III)-oxidhydrat; Eugenol; Linalool; Citral; Eisen(II,III)-oxid; Xanthan gummi; Glycerol stearat citrat; Parfüm; Cetylstearylalkohol; Glycerolmonostearat; Aluminium-Magnesium-silicat; Natronlauge zur pH-Wert-Einstellung; Geraniol; mittelkettige Triglyceride; gereinigtes Wasser; 4-Oxopentansäure; 4-Oxopentansäure; Natriumsalz; Sorbitol; Titandioxid; Ethanol; Palmitinsäure.
Hersteller:
Heilerde-Gesellschaft Luvos Just GmbH & Co. KG Otto-Hahn-Str. D. 61381, Friedrichsdorf
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